Pluto30是專為研發(fā)而設(shè)計(jì)的全功能等離子體系統(tǒng)，13.56MHz射頻發(fā)生器和自動(dòng)匹配網(wǎng)絡(luò)電源在整個(gè)過(guò)程區(qū)域產(chǎn)生均勻的等離子體。Pluto30的真空腔可支持多達(dá)7個(gè)可調(diào)節(jié)樣品架，以容納各種形狀尺寸的樣品。Pluto30具有多種電極設(shè)置，可配置成RIE和PECVD模式，從而擴(kuò)大了該系統(tǒng)的應(yīng)用范圍，提供給用戶良好的靈活性。

復(fù)旦大學(xué)高分子系老師希望用該設(shè)備進(jìn)行等離子體化學(xué)反應(yīng)的實(shí)驗(yàn)，即利用設(shè)備產(chǎn)生的等離子體在真空泵和氣體閥門(mén)關(guān)閉的情況下與真空腔內(nèi)的物質(zhì)進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)，然后獲取化學(xué)反應(yīng)后產(chǎn)生的新物質(zhì)。此項(xiàng)實(shí)驗(yàn)，對(duì)等離子體設(shè)備要求有精準(zhǔn)的控制，對(duì)真空腔的保壓能力有很高的要求?？蛻艚?jīng)過(guò)一番調(diào)研后，最終選擇了我司Pluto系列的Pluto30等離子表面處理系統(tǒng)。

應(yīng)用領(lǐng)域：

表面活化

提高表面能量以提高材料粘合性：預(yù)壓模粘合；預(yù)焊線粘合

增強(qiáng)表面膠體流動(dòng)性：預(yù)成型；預(yù)倒裝芯片下溢

表面粗糙度和蝕刻

降低表面應(yīng)力，改善表面粘結(jié)性

灰化和表面清潔

Plasma等離子蝕刻（配備RIE配置)

電介質(zhì)/III-IV材料

納米涂層（配備液體前體輸送裝置）

耐水納米涂層：印刷電路板表面處理

防腐納米涂層：醫(yī)療器械，醫(yī)療植入物